・真空機構が不要、且つ完全ドライプロセスによる簡単な操作
・粉体表面への均一な処理が可能
・ガスの選択により各種官能基の付加が可能
・試料容器の回転揺動スピードは、個別に制御可能
・PLC（プログラマブルロジックコントローラ）による自動制御システム。