(発生原理)
酸化パラジウム-Ni電極水電解方式(陰極:酸化パラジウム+高分子膜の複合膜方式)にて、高純度99.999%upの水素を安定して供給いたします。
- 陰極に酸化パラジウムと高分子膜の複合膜方式を採用しており、セル寿命が大幅に向上しております。
- 使用純水は1μS以下のイオン交換水を使用しますので、純水の管理が容易です。
- FID,FPD検出器搭載ガスクロの水素源として最適です。
- 各種実験、研究用の水素源としても最適です。
高純度水素発生機 RHGシリーズは、酸化パラジウム-Ni電極水電解方式にて、高純度99.999%upの水素を安定して供給する装置です。
発生流量によりRHG-200(100ml/min)、RHG-300(300ml/min)、RHG-500(500ml/min)、RHG-700(700ml/min)、RHG-1000(1000ml/min)の5機種をラインナップしております。
製品分類 | 使用用途 | メーカー |
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前処理 | ラボ用 | (株)ジェイ・サイエンス・ラボ |
(発生原理)
酸化パラジウム-Ni電極水電解方式(陰極:酸化パラジウム+高分子膜の複合膜方式)にて、高純度99.999%upの水素を安定して供給いたします。