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(株)ラウンドサイエンス製


高純度水素発生機は、酸化パラジウム−Ni電極水電解方式にて、高純度99.999%upの水素を安定して供給する装置です。発生流量によりRHG-200(200ml/min)と、RHG-1000(1000ml/min)の2機種をラインナップしています。

発生原理
酸化パラジウム−Ni電極水電解方式(陰極:酸化パラジウム+高分子膜の複合膜方式)にて、高純度99.999%upの水素を安定して供給します。

【高純度水素発生機の特徴】
1. 陰極に酸化パラジウムと高分子膜の複合膜方式を採用しており、セル寿命が大幅に向上しています。
2. 使用純水は1μS以下のイオン交換水を使用しますので、純水の管理が容易です。
3. FID,FPD検出器搭載ガスクロの水素源として最適です。
4. 各種実験、研究用の水素源としても最適です。

仕様
RHG-200
発生流量 : max 230ml/min
発生圧力 : 0〜300kPa(max450kPaまで設定可変)
使用純水 : 導電率1.0μS/cm以下 タンク容量1L(外付けタンク2L)
コンパクト設計(外形) : W120×D400×H240(本体寸法、外付けタンク別)

RHG-1000
発生流量 : max 1500ml/min
発生圧力 : 0〜300kPa(max450kPaまで設定可変)
使用純水 : 導電率1.0μS/cm以下 タンク容量4L(外付けタンク2L)
コンパクト設計(外形) : W270×D500×H500(本体寸法、外付けタンク別)



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